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                  當前位置:首頁   >  產品中心  >    >  鍍膜機  >  EC400蒸發(fā)鍍膜設備

                  蒸發(fā)鍍膜設備

                  簡要描述:1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設備。
                  2.設備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
                  3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。

                  • 所在城市:無錫市
                  • 廠商性質:生產廠家
                  • 更新日期:2024-12-06
                  • 訪  問  量:2721

                  詳細介紹

                  品牌LEBO/雷博
                    蒸發(fā)鍍膜設備的用途
                   
                    蒸發(fā)鍍膜設備是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內,通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程。可在高真空下蒸發(fā)高質量的不同厚度的金屬薄膜。蒸鍍薄膜種類:Au,Cr,Ag,Al,Cu,In,有機物等。
                   
                    蒸發(fā)鍍膜設備的組成:
                   
                    有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng);真空測量系統(tǒng);蒸發(fā)源;樣品加熱控溫;電控系統(tǒng);配氣系統(tǒng)等部分組成。
                   
                    1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設備
                   
                    2.設備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成。
                   
                    3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。
                   
                    4.主要用途:
                   
                    1. 開發(fā)納米級單層、多層及復合膜層等。
                   
                    2. 制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質膜等,例:銀、鋁、 銅、C60、BCP......
                   
                    5.應用領域:
                   
                    1. 高校、科研院所的教學、科研實驗及生產型企業(yè)前期探索性實驗及開發(fā)新產品等。
                   
                    2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業(yè)。
                   
                    6.小型實驗設備的理想選擇/性能滿足各種實驗需求/專業(yè)的服務確保用戶省心省力
                   
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